Пленка INDUSTREX T200
INDUSTREX T200 применяется вместе с другими пленками в многопленочной технологии и показывает дополнительную информацию о скрытых дефектах. Пленка с запатентованной эмульсионной технологией T-GRAIN упрощает и ускоряет обнаружение дефектов, в том числе и микротрещин. Благодаря специальным свойствам плоских зерен галогенида серебра технология T-GRAIN увеличивает резкость и четкость изображения.
Высокочувствительная, высококонтрастная, мелкозернистая рентгеновская пленка INDUSTREX T200 принадлежит к классу I по ASTM E 1815-96. Применяется в многопленочной и однопленочной рентгенографии путем прямого экспонирования рентгеновскими лучами или с использованием свинцовых экранов. Пленка T200 предусмотрена для использования в суровых условий эксплуатации и выдерживает высокую температуру и влажность. Надежно защищает от статических разрядов и позволяет получать нужное качество изображения в любых рабочих условиях.
Формы упаковки
Для листовой пленки
- типа NIF (T200-1)
- типа Pb Contactpack (T200-7)
Рулонная пленка
- типа LEAD-Pack (T200-382)
- рулон типа NIF (T200-359)
Хранение
- Неэкспонированную пленку нужно хранить при температуре 10 – 21 °С и относительной влажности воздуха 30 – 50%. Необходимо обеспечить надлежащую защиту пленки от рентгеновских и гамма-лучей и иного проникающего излучения.
- Экспонированную пленку следует хранить в прохладном месте, надлежащим образом защищенном от проникающего излучения. После экспонирования пленку необходимо как можно скорее проявить.
- Обработанную пленку нужно хранить при температуре 15 – 27 °С и относительной влажности воздуха 30 – 50 %.
Характеристики
Толщина
| Основа/подложка | 0,18 мм (7,0 мил) |
|---|---|
| Эмульсия | 25 мкм (1,00 мил) – 12,5 мкм с каждой стороны |
| Покрытие | 10 мкм (0,40 мил) – 5 мкм с каждой стороны |
| Общая толщина | 0,22 мм (8,4 мил) |
Относительная экспозиция
Условия экспонирования: медный фильтр 8 мм, слой половинного ослабления — медь 3,5 мм (220 кВ), свинцовые экраны.
| Пленки INDUSTREX | Проявочный аппарат и химикаты INDUSTREX (цикл — 8 минут при 26 °С) |
|---|---|
| TR200 | 1,0 |
| DR50 | 4,2 |
| AA400 | 0,6 |
| M100 | 2,4 |
| MX125 | 1,6 |
| HS800 | 0,3 |
* Пленке T200 при цикле 8 мин при 26 °С присвоено значение относительной экспозиции равное 1.
Относительная экспозиция для различных уровней энергии
Пленке T200 при цикле 8 мин при 26 °С присваивается относительная экспозиция, равная 1.
| Пленка INDUSTREX | ISO 120kB* | EN 220kB** | Иридий*** | Кобальт**** |
|---|---|---|---|---|
| T200 | 1,0 | 1,0 | 1,0 | 1,0 |
| DR50 | 5,6 | 4,2 | 4,7 | 4,7 |
| AA400 | 0,6 | 0,6 | 0,5 | 0,5 |
| M100 | 2,6 | 2,4 | 2,8 | 3,4 |
| MX125 | 1,8 | 1,6 | 1,6 | 1,8 |
| HS800 | - | 0,3 | - | - |
* В соответствии со стандартом ISO 7004. Без свинцовых экранов.
** В соответствии со стандартом ISO 7004. Свинцовые экраны EN 584-1.
*** Медный фильтр 8 мм. Cвинцовые экраны 100/200 мкм.
**** Свинцовые экраны 100/200 мкм.
Автоматическая обработка пленки
Сенситометрические характеристики пленки
| Цикл проявочного аппарата | Основа + вуаль | Контраст* |
|---|---|---|
| M43IC, 8 минут при 26 °C | 0,195 | 4,7 |
| M43IC, 5 минут при 30 °C | 0,20 | 4,7 |
| M35, 10,5 минут при 30 °C | 0,20 | 4,2 |
* Определение контраста произведено между плотностями над вуалью 1,5 и 3,5D
Характеристические кривые (автоматическая обработка)
Экспонирование — рентгеновское излучение 200/220 кВ со свинцовыми экранами.
Обработка — автоматическая (проявочная машина INDUSTREX, химикаты INDUSTREX).
Ручная обработка пленки
Сенситометрические характеристики пленки
| Условия проявки | Основа + вуаль | Контраст** |
|---|---|---|
| 5 минут при 20 °C | 0,20 | 4,8 |
| 3 минуты при 24 °C | 0,20 | 4,8 |
** Определение контраста произведено между плотностями над вуалью 1,5 и 3,5D
Характеристические кривые (ручная обработка)
Экспонирование — рентгеновское излучение 200/220 кВ со свинцовыми экранами
Обработка — ручная (проявитель INDUSTREX Single Part Developer Replenisher)